光學膜厚儀利用反射干涉的原理進行無損測量，可測量薄膜厚度及光學常數。測量精度達到埃級的分辯率，測量迅速，操作簡單，界面友好，是具性價比的膜厚測量儀設備。設備光譜測量范圍從近紅外到紫外線，凡是光滑的，透明或半透明的和所有半導體膜層都可以測量。
光學膜厚儀的功能：
●采用了磁性測厚方法，可測量磁性金屬基體上非磁性覆蓋層的厚度；
●可采用單點校準和兩點校準兩種方法對儀器進行校準；
●可采用基本校準修正法對測頭系統誤差進行更新修正，保證儀器在測量過程中的準確性；
●負數顯示功能，保證儀器零位點校準的準確性，提高測試精度；
●操作過程有蜂鳴聲提示；
●兩種關機方式：手動關機方式和自動關機方式；
●電池電壓指示：低電壓提示；
●微功耗設計，在待機裝態不到10微安的電流。
光學膜厚儀的特點：
A、精美整體式設計，攜帶方便；
B、金屬測頭，牢固，耐磨，更穩定；
C、人體工程學設計，操作舒適，可精準地放置于光滑、平坦的表面之上；
D、測試速度快，讀數準確；
E、具有連續測試和單次測量兩種測量方式；連續測試減少人為誤差，讓測量值更精準；
F、儀器可存貯116個測量數據；
G、四個統計功能：大小值、平均值、測量次數，按下TA鍵即可查閱；
H、可以連接電腦進行通信讀出存貯數據進行保存或打印；
I、兩種校準方式：零點校準和二點校準；
J、操作過程有蜂鳴聲提示（單次測量方式）；
K、自動識別鐵基和非鐵基底材；
L、低電壓指示；
M、手動/自動關機功能；
N、高耐沖擊ABS塑料外殼制成，非常適用于油漆有粉末涂層環境。
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