納米粒度儀分析儀在一臺儀器中集成了動態光散射技術和靜態光散射兩種技術。動態光散射法用于測量粒度及分子大小，靜態光散射法用于確定蛋白質與聚合物的分子量。這種技術對整個系統的穩定性的要求*，要求每個設計元素都必須實現優化，以確保高準確性和重現性。采用光路密閉設計，防止污染。
納米粒度儀分析儀的工作原理：
采用全量程米氏散射理論，充分考慮到被測顆粒和分散介質的折射率等光學性質，根據大小不同的顆粒在各角度上散射光強的變化反演出顆粒群的粒度分布數據。
顆粒測試的數據計算一般分為約束擬合反演和有約束擬合反演兩種方法。有約束擬合反演在計算前假設顆粒群符合某種分布規律，再根據該規律反演出粒度分布。這種運算相對比較簡單，但由于事先的假設與實際情況之間不可避免會存在偏差，從而有約束擬合計算出的測試數據不能真實反映顆粒群的實際粒度分布。
約束擬合反演即測試前對顆粒群不做任何假設，通過光強直接準確地計算出顆粒群的粒度分布。這種計算前提是合理的探測器設計和粒度分，給設備本身提出很高的要求。采用優的非均勻性交叉三維扇形矩陣排列的探測器陣列和合理的粒度分，從而能夠準確地測量顆粒群的粒度分布。
納米粒度儀分析儀的功能特點：
1、反演算法：采用擬合累積反演法和基于V-曲線判斷準則的正則化算法反演顆粒粒徑及其粒度分布，使測量結果的準確度和重復性均小于1%。
2、抗噪能力：采用小波消噪技術，解決了散射光強較低時，噪聲過大對測量結果的影響。
3、溫控系統：基于半導體制冷裝置，采用自適應PID控制算法，使溫度控制精度達±0.1℃。
4、穩定的光路系統：采用恒溫固態激光光源和單模保偏光纖技術搭建而成的光路系統，保證了光子相關光譜測量系統的穩定性和準確度。
